Marvelous Designer 9 新機能 | 株式会社Too

Marvelous Designer 9 新機能

NEW IN MD 9

GPU シミュレーション

GPU シミュレーションを有効にすると、3D衣装をより高速にシミュレートすることができます。

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リトポロジー

布地パターン上にトポロジーラインを描画し、新しいメッシュを作成することができます。

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Half Pattern Symmetry

個々の布地パターンを、それぞれの中心線を基準にシンメトリックに編集することができます。

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サブディビジョン

選択した領域に対し、メッシュのサブディビジョン分割を適用することができます。

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Mirror Creation

ポリゴンや内部図形をシンメトリックに作成できます。

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Environment Display 3D

ライトや風のコントロール、シャドウやグリッドなどの3D環境要素を3Dウインドウで表示できます。

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パターン作成ツール

パターン作成ツール群はグループメニューとして統合されました。

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